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XMD *研磨分散機

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*研磨分散機定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

一、產品名稱概述:*研磨分散機,*注射液分散機,*軟膏分散機,*超高速分散機

二、*的簡介

*是一種用來***各種皮膚病或減輕口瘍帶來不適的合成皮質類固醇。它是更有效的去炎松,大約是強的松的八倍 。*為*A的醋酸酯衍生物。是中效糖皮質激素。作用與*相似,具有***、抗瘙癢和收縮血管等作用,水鈉潴留作用微弱,其中***作用較強而持久。

 

三、*的細化

*注射液、軟膏等產品,想要獲得好的藥效,需要對*粉體進行充分的細化,保證藥效的充分發揮。一般*粉體原始粒徑為100μm左右,加入液體介質后,采用XMD2000系列高速剪切研磨分散機,處理后,粒徑D90〈2μm,并且體系分散均勻,效果高。XMD2000系列超高速研磨分散機轉速可達18000rpm,線速度50m/s,定轉子精密度高,間隙小。

四、SID*分散機特點

1、太倉希德研磨式分散機,“膠體磨+分散機”的*結構,一級研磨模塊可以將團聚體研磨打開,第二級分散模塊再瞬間對物料進行充分的分散,一步到位,效果好,效率高。

2、*粉體分散細化,所以需要強大的作用對其進行分散,傳統分散設備轉速一般不足3000rpm,難以分散。而SGN研磨分散機轉速高達18000rpm,剪切速率高,可以充分研磨細化。

3、SID研磨分散機采用管線式分體式結構,物料從進口進入設備工作腔中,進行處理,然后再從出口打出,物料***得的剪切細化分散,產品更均勻穩定。另外可以實現在線式生產,滿足大工業化生要求。

 

五、研磨分散機用于制藥行業的優勢

1、污染是制藥過程很大的風險因素,對于設備良好的清潔可以有效的防止污染的發生。XMD2000從設計上注重衛生要求,采用*設計,便于清洗,對表面進行高質量處理,防止其對制藥產生不利影響,該設備還符合CIP和SIP的清潔標準,能更好的實現在線清洗,提高工作效率,確保產品安全。

2、設備更便于生產員工進行操作,物料投入投料口后自動從出料口排出,如果存在穩定的工藝路線,可以直接通過管線與上一工序相連接,則該設備可以實現無人操作,在生產過程中適用性。

3、設計符合制藥工業要求,同時滿足不同產品對于粒徑的要求,在制藥的分散混合工藝中應用前景很大。

六、*超高速分散機選型表

型號

流量

L/H

轉速

rpm

線速度

m/s

功率

kw

入/出口連接

DN

XMD2000/4

300

18000

50

4

DN25/DN15

XMD2000/5

1000

13000

50

11

DN40/DN32

XMD2000/10

2000

9000

50

22

DN80/DN65

XMD2000/20

5000

2850

50

37

DN80/DN65

XMD2000/30

8000

1420

50

55

DN150/DN125

*研磨分散機,*注射液分散機,*軟膏分散機,*超高速分散機


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