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萊特萊德(上海)水處理設備有限公司
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超純水設備應用于半導體芯片行業(yè)

時間:2024/9/5閱讀:163
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芯片制造對水質(zhì)的要求是十分苛刻的對于大眾來說,平時接觸的自來水飲用水的渾濁度小于1NTU根據(jù)現(xiàn)行《生活飲用水衛(wèi)生標準》GB5749-2022)。這樣的自來水在肉眼看來,就已經(jīng)非常干凈了。但是,這在電子行業(yè),尤其是芯片制造領域,還差得很遠很遠。在芯片生產(chǎn)過程看來,自來水里面雜質(zhì)多到什么程度就好比是一鍋粥!所以,芯片行業(yè)需要對生產(chǎn)用水進行苛刻的純化處理。

超純水2-3.jpg


第一層次——去離子水:采用物理、化學方法,去除溶于水中的電解質(zhì),獲得電阻率在0.1~10MΩ·cm的水真正純凈的水可被視為絕緣體,生活中的水導電,是因為其中有雜質(zhì)。這個過程去除了水中的電解質(zhì),但溶于水中的非電解質(zhì)如有機物、微生物、顆粒物、溶解性氣體等大部分未被去除。

第二層次——純水采用物理、化學方法,去除了水中的幾乎全部電解質(zhì)與非電解質(zhì),且水中陽離子和陰離子、有機物、顆粒物、微生物等含量受到一定控制。此時,純水的電阻率在10~18.2MΩ·cm25℃,可以被視其為絕緣體了。

第三層次——超純水如果將水中陽離子、陰離子、有機物、顆粒物、微生物都進行嚴格控制,這還不算完,再對水中溶解氣體進行嚴格控制,此時水的電阻率達到18.2MΩ·cm25℃以上接近理論值18.25MΩ·cm,25℃時

萊特萊德超純水設備結(jié)合膜分離技術,利用反滲透結(jié)合EDI裝置制備超純水,出水電阻率可達18.2MΩ.cm25℃,滿足半導體生產(chǎn)用水的需求。同時,設備還配備了反滲透預脫鹽技術,以確保設備的出水水質(zhì)。同時,EDI處理裝置產(chǎn)生的廢水較少,不會污染環(huán)境,具有較高的環(huán)境效益和經(jīng)濟效益,具有廣闊的發(fā)展前景。

超純水設備具有連續(xù)出水、無需酸堿再生和無人值守、安裝簡便、操作方便等優(yōu)勢,出水水質(zhì)符合電池用水相關標準,為半導體用水保駕護航。隨著超純水設備技術不斷完善,開啟了各行業(yè)生產(chǎn)發(fā)展的新局面。許多企業(yè)在生產(chǎn)過程中對水質(zhì)純度有不同的要求,并得到了廣泛的應用,如清洗設備用水、精密產(chǎn)品生產(chǎn)用水、檢測用水等。



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