芯片制造對水質的要求是十分苛刻的，對水質的要求就更高。對于大眾來說，平時接觸的自來水(飲用水)的渾濁度小于1NTU(根據現行《生活飲用水衛生標準》GB5749-2006)。這樣的自來水在肉眼看來，就已經非常干凈了。但是，這在電子行業，尤其是芯片制造領域，還差得很遠很遠。在芯片生產過程看來，自來水里面雜質多到什么程度？就好比是一鍋粥！所以，芯片行業需要對生產用水進行苛刻的純化處理。

第一層次——去離子水：采用物理、化學方法，去除溶于水中的電解質，獲得電阻率在0.1~10MΩ·cm的水(真正純凈的水可被視為絕緣體，生活中的水導電，是因為其中有雜質)。這個過程去除了水中的電解質，但溶于水中的非電解質(如有機物、微生物、顆粒物、溶解性氣體等)大部分未被去除。

第二層次——純水：采用物理、化學方法，去除了水中的幾乎全部電解質與非電解質，且水中陽離子和陰離子、有機物、顆粒物、微生物等含量受到一定控制。此時，純水的電阻率在10~18.2MΩ·cm(25℃)，可以被視其為絕緣體了。

第三層次——超純水：如果將水中陽離子、陰離子、有機物、顆粒物、微生物都進行嚴格控制，這還不算完，再對水中溶解氣體進行嚴格控制，此時水的電阻率達到18.2MΩ·cm(25℃)以上(接近理論值18.25MΩ·cm，25℃時)。

萊特萊德超純水設備結合膜分離技術，利用反滲透結合EDI裝置制備超純水，出水電阻率可達18.2MΩ.cm(25℃)，滿足半導體生產用水的需求。同時，設備還配備了反滲透預脫鹽技術，以確保設備的出水水質。同時，EDI處理裝置產生的廢水較少，不會污染環境，具有較高的環境效益和經濟效益，具有廣闊的發展前景。

超純水設備具有連續出水、無需酸堿再生和無人值守、安裝簡便、操作方便等優勢，出水水質符合電池用水相關標準，為半導體用水保駕護航。隨著超純水設備技術不斷完善，開啟了各行業生產發展的新局面。許多企業在生產過程中對水質純度有不同的要求，并得到了廣泛的應用，如清洗設備用水、精密產品生產用水、檢測用水等。