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納糯三維科技(上海)有限公司Nanoscribe
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灰度光刻3D打印系統廠家

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具體成交價以合同協議為準

產品型號Quantum X shape

品       牌

廠商性質其他

所  在  地國外

更新時間:2025-06-30 08:22:53瀏覽次數:183次

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Quantum X shape雙光子無掩膜光刻系統是一款真正意義上的多面手。基于雙光子聚合技術,該系統不僅是快速成型制作的最佳機型,同時適用于基于晶圓上的任何亞微米精度的2.5D及3D形狀的規模化生產。全新Quantum X shape可以為您打印任何 2.5D 和 3D 微納結構,提供真正意義上的設計自由度。該系統可實現您各類高縱橫比結構。
作為同類中超前的3D打印系統
Quantum X shape 可打印任何形狀,最小尺寸可達100nm同時表面粗造度(Ra)小于5nm,打印面積可達25 cm


具備自動滴膠模組功能的打印系統,過夜效率可達200個特征結構。


通用高性能雙光子聚合材料,適用高分子及玻璃打印。



Reshaping precision.

作為已被工業界認可的Nanoscribe公司推出的Quantum X平臺的二代加工系統,Quantum X shape雙光子無掩膜光刻系統在3D微納加工領域擁有驚人的高精度,比肩于Nanoscribe公司在表面結構應用上突破性的雙光子灰度光刻(2GL ®)。全新的Quantum X shape的高精度有賴于其體素調制比和超精細處理網格,從而實現亞體素的尺寸控制。此外,受益于雙光子灰度光刻對體素的微調,該系統在表面微結構的制作上可達到超光滑,同時保持高精度的形狀控制。

Reshaping output.

Quantum X shape雙光子無掩膜光刻系統不僅是應用于生物醫學、微光學、MEMS、微流道、表面工程學及其他很多領域中器件的快速原型制作的理想工具,同時也成為基于晶圓的小結構單元的批量生產的簡易工具。

Reshaping usability.

通過系統集成觸控屏控制打印文件來大大提高實用性。通過系統自帶的nanoConnectX軟件來進行打印文件的遠程監控及多用戶的使用配置,實現推動工業標準化及基于晶圓批量效率生產。

 

 

主要特征:

* 納米尺度打印:在任意空間方向上的特征尺度控制,可達100nm

* 超快體素控制和100nm處理網格的高速3D微納加工

* 的振鏡軌道控制保證的快速掃描速度下的軌跡準確度

* 自動化自校準路徑保證的高精度激光能量控制及定位

* 可達6英寸基片和硅片的廣泛選擇

* 工業化批量生產: 200個標準介觀尺度結構通宵產量

* 保證實用性和體驗感的觸控屏和遠程控制功能

* 快速原型制作,高精度,高設計自由度,簡易明了的工作流程

* 工業驗證的晶圓級批量生產

* 通用及專用的打印材料

* 兼容自主及第三方打印材料




 

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