Nanoscribe QX系列雙光子無掩膜光刻系統(tǒng)實現(xiàn)最高分辨率
A2PL®技術3D打印應用于納米級精度對準

全新Quantum X align對準雙光子光刻（A2PL®)系統(tǒng)通過新添加的高精度對準功能實現(xiàn)了對高精度結構的精準放置，增強了Nanoscribe已受大眾認可的三維微納加工技術。這款具備納米級精度對準3D打印功能的最高分辨率打印設備利用A2PL技術，自由曲面微光學原件可以以亞微米精度精準對齊打印到光纖或光子芯片光軸上。可應用于生產(chǎn)用于光子集成和封裝或小型化成像光學器件的高效光學互連，例如用于微創(chuàng)內(nèi)窺鏡檢查等。

從對準到打印一步完成

集成光子學或小型化醫(yī)療設備的封裝通常需要各種微光學元件相互之間進行繁瑣的放置和A2PL光學接口對準流程。Quantum X align簡化了這一過程，A2PL技術實現(xiàn)了光子芯片或光纖芯上的光學接口及其空間方向的自動檢測，以及自由曲面微光學或衍射元件可直接打印到位。在實現(xiàn)更緊湊設備的同時減少了裝配工差，并大大降低了工藝鏈的復雜性，避免了原本耗資巨大的手動對準流程。

對準光纖和光子芯片

當在單劈型光纖或v型槽光纖陣列上打印時，自動3D光纖芯檢測系統(tǒng)和自動傾斜校正功能確保了精確對準和低耦合損耗。
Quantum X align還具有共焦成像模塊，用于基底拓撲3D構圖，并可自動對準預定義的標記或波導。這使得Quantum X align成為將微光學元件直接打印到光子芯片表面或刻面上的有效工具，適用于工業(yè)制造中的光子封裝。

精準實現(xiàn)您的想法

具有納米級精度的3D對準系統(tǒng)，加上強大且用戶友好的工作流程，為三維微納光學以外的其他微納加工應用開辟了新的機會。從微流體到復雜的傳感器系統(tǒng)或MEMS: Quantum X align是高精度3D微納加工的有效工具，可在復雜3D基底上以最高精度實現(xiàn)自動定位。

Nanoscribe QX系列雙光子無掩膜光刻系統(tǒng)技術參數(shù)

• 通過對準雙光子光刻技術（A2PL）實現(xiàn)高性能3D微納加工

• 在光纖上進行3D打印: 基于纖芯檢測功能實現(xiàn)在光纖表面精確對準打印

• 在芯片上進行3D打印: 基于3D基底拓撲構圖在芯片表面或刻面上精確對準打印

• 3D對準技術：自動檢測和三個旋轉軸上襯底傾斜補償

• 高速微納加工智能切片

打印程序和工作流程

• 基于雙光子聚合（2PP）的高精度3D打印

• 采用Dip-in激光光刻（DiLL）進行簡單、可靠的設置

• 100納米特征尺寸控制

• 對準雙光子光刻技術（A2PL)在預定義位置實現(xiàn)精準3D打印