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CMD2000 石墨烯改性芳香聚酰胺研磨分散機

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石墨烯改性芳香聚酰胺研磨分散機設計*,能夠延長易損件的使用時間,因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎。可以一機多用,也可以單獨使用,且粉碎粒度范圍廣,成品粒徑可以進行調整。

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IKN研磨分散機設計*,能夠延長易損件的使用時間,因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎。可以一機多用,也可以單獨使用,且粉碎粒度范圍廣,成品粒徑可以進行調整。

 

 

氧化石墨烯涂層改性的芳香聚酰胺反滲透膜屬于水處理膜制備技術領域。該反滲透膜包括基底支撐層、中間多孔承托層、超薄致密分離層和氧化石墨烯涂層四個部分;氧化石墨烯涂層厚度為50~150nm。本發明將氧化石墨烯涂覆在致密分離層表面,可有效提高復合反滲透薄膜的脫鹽率、抗污染性能和抗氯性能,同時降低所需工作壓力。

 

隨著工業的發展,水污染及淡水資源短缺是當今面臨的大的挑戰之一。為解決當前嚴重的淡水危機,海水淡化得到越來越多的關注。目前,主要的海水淡化脫鹽技術包括反滲透、多效蒸餾、多級閃蒸和電滲析。其中,應用反滲透膜的反滲透法是節能的海水淡化技術。然而,目前所采用的傳統聚酰胺高分子反滲透膜主要通過制造納米孔起到截留鹽離子的作用,脫鹽性能上還存在諸多不足,如膜的產水量較低、抗污染和抗氯性能較差、所需外壓較大,脫鹽率還存在一定的提升空間等。

 

為了改善傳統反滲透膜的親水性、水和離子傳輸通道等,從而有效提高復合反滲透薄膜的脫鹽率、抗污染性能和抗氯性能,同時降低所需工作壓力,節省能耗并降低成本,本發明提供一種氧化石墨烯涂層改性的芳香聚酰胺反滲透膜

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上海依肯的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質一步到位的物料。研磨分散機為立式分體結構,精密的零部件配合運轉平穩,運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續24小時不停機運行。簡單的說就是將IKN/依肯膠體磨進行進一步的改良,將單一的膠體磨磨頭模塊,改良成兩級模塊,加入了一級分散盤。可根據物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇) IKN研磨分散機可以高速研磨,分散,乳化,均質等功能,設備轉速可達14000rpm,是目前國產設備轉速的4-5倍。

 

CMD2000研磨分散機為立式分體結構,有一定輸送能力,可以處理高固含量有一定粘稠度物料,CM2000設計了符合漿液流體特性的特殊轉子,進行物料的推動輸送;所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼,機座采用304不銹鋼;特殊要求如:硬度較大物料,對鐵雜質要求嚴苛的物料,管道有一定壓力并且需不間斷運轉的工況,可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷;CMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設計,可通冷卻或者升溫介質。

 

從設備角度來分析,影響研磨分散機效果因素有以下幾點:

1.研磨頭的形式(批次式和連續式)(連續式比批次式要好)

2.研磨頭的剪切速率,(越大效果越好)

3.研磨的齒形結構(分為初齒、中齒、細齒、超細齒、越細齒效果越好)

4.物料在分散墻體的停留時間、研磨分散時間(可以看作同等電機,流量越小效果越好)

5.循環次數(越多效果越好,到設備的期限就不能再好了。)

 

線速度的計算:

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
               g 定-轉子 間距 (m)

由上可知,剪切速率取決于以下因素:

轉子的線速率

在這種請況下兩表面間的距離為轉子-定子 間距。 
IKN 定-轉子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D(轉子直徑)X 轉速 RPM  /   60

 所以轉速和分散頭結構是影響分散的一個zui重要因素,超高速分散均質分散機的高轉速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是zui重要的

 

IKN研磨分散機的應用領域:

  1. 精細化工、顏料、染料、涂料、油漆、塑料、樹脂、熱熔膠、阻燃劑、膠黏劑、整理劑、表面活性劑、均染劑防粘劑、消泡劑、光亮劑、橡膠助劑、塑料輔劑、染料助劑、絮凝劑、混凝劑、表面活性劑溶劑、硅油乳化、樹脂乳化、炭墨分散
  2. 石油化工、潤滑油、重油混合、油包水、包油水、柴油乳化、改性瀝青、乳化瀝青、催化劑、蠟乳化
  3. 農藥化肥 、化肥、農藥乳化、農藥助劑、農藥中間體、藥乳油、殺蟲劑、除草劑、種衣劑、殺菌劑、植物激素、尿素、復合肥、乳油濕性粉劑
  4. 生物醫藥、細胞漿化、血清疫苗、蛋白質分散劑、藥乳膏、抗生素、糖衣
  5. 日用化工、護膚霜、護膚膏、洗滌劑、防腐劑、美發用品、牙膏、日用香精
  6. 食品工業、食品添加劑、香精香料、果汁、果醬、冰淇淋、乳制品、巧克力、植脂末
  7. 涂料油墨、內外墻涂料、乳膠漆、納米涂料、建筑膠、光固化涂料、油墨、墨水、碳黑、涂料助劑釉、膨潤土

 

CMD2000系列研磨分散機設備選型表
 

型號

流量

L/H

轉速

rpm

線速度

m/s

功率

kw

入/出口連接

DN

CMD2000/4

300

9000

23

2.2

DN25/DN15

CMD2000/5

1000

6000

23

7.5

DN40/DN32

CMD2000/10

2000

4200

23

22

DN80/DN65

CMD2000/20

5000

2850

23

37

DN80/DN65

CMD2000/30

8000

1420

23

55

DN150/DN125

CMD2000/50

15000

1100

23

110

DN200/DN150

 

流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,可以被調節到zui大允許量的10%

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