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CMSD2000 鹽酸頭孢噻呋注射液研磨分散機

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鹽酸頭孢噻呋注射液研磨分散機為立式分體結構,精密的零部件配合運轉平穩,運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續24小時不停機運行。

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IKN研磨均質機為立式分體結構,精密的零部件配合運轉平穩,運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續24小時不停機運行。

鹽酸頭孢噻呋注射液是獸用注射液的一種, 頭孢類抗生素又稱*,對大多數革蘭氏陰性菌和陽性菌都有較強的抑菌作用。對多殺性巴士桿菌、溶血性巴士桿菌、胸膜肺炎放線桿菌、嗜血桿菌、沙門氏菌、大腸桿菌等各種病菌所致疾病均有效,尤其用于防治多種病原引起的呼吸道混合感染。

 

 

 

硫酸頭孢噻呋的結構決定它具有如下特點:

1、可快速穿透革蘭氏陰性細菌的外膜;

2、對β內酰胺酶穩定且親合力低;

3、與*結合蛋白親合力高;

4、半衰期短,需多次給藥,體內分布不廣泛。

 

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醫藥級混懸液、注射液、口服液設備選型上注意幾點:

1、設備收否能夠達到無菌級別。即設備可以在線滅菌,可以耐受高溫,滅菌后可以保持無菌狀態。

2、電機要求有變頻控制,可以有效延緩電機的壽命。

3、膠體磨的不銹鋼材質一定要耐磨,防止研磨過程出現金屬碎屑。

4、關于生產效率配備、連接方式、電源、噪音、安全等問題生產單位應根據生產現場考慮。

選定的膠體磨作為生產頭孢噻呋、頭孢噻呋等混懸液的關鍵設備,由于價格較貴,需要在廠家現場試驗,考察研磨效果。上海依肯特別提供一臺樣機,可供客戶購買前免費試機,滿意了咱才買,不會花冤枉錢!這點還是比較人性化的。

 

CMD2000系列研磨分散機的結構:研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產品。

*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區別不光是轉子齒的排列,還有一個很重要的區別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例,依據以前的經驗工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數情況下,機器的構造是和具體應用相匹配的,因而它對制造出zui終產品是很重要。

 

CMD2000研磨分散機為立式分體結構,有一定輸送能力,可以處理高固含量有一定粘稠度物料,CM2000設計了符合漿液流體特性的特殊轉子,進行物料的推動輸送;所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼,機座采用304不銹鋼;特殊要求如:硬度較大物料,對鐵雜質要求嚴苛的物料,管道有一定壓力并且需不間斷運轉的工況,可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷;CMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設計,可通冷卻或者升溫介質。

 

CMSD2000系列研磨分散機設備選型表

型號

流量

L/H

轉速

rpm

線速度

m/s

功率

kw

入/出口連接

DN

?CMSD2000/4

300

14000

41

4

DN25/DN15

CMSD2000/5

1000

10500

41

11

DN40/DN32

CMSD2000/10

4000

7200

41

22

DN80/DN65

CMSD2000/20

10000

4900

41

45

DN80/DN65

CMSD2000/30

20000

2850

41

90

DN150/DN125

CMSD2000/50

60000

1100

41

160

DN200/DN150

 

流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,可以被調節到zui大允許量的10%

 

設備其它參數:

設備等級:化工級、衛生I級、衛生II級、無菌級
電機形式:普通馬達、變頻調速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、
電源選擇 380V/50HZ220V/60HZ440V/50HZ
電機選配件 PTC 熱保護、降噪型
研磨分散機材質SUS304 SUS316L SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機選配:儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
研磨分散機表面處理:拋光、耐磨處理
進出口聯結形式:法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機選配容器:本設備適合于各種不同大小的容器

 

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